なぜChromiumなのか？（技術的な利点）
クロムは、その独自の物理的特性により、高精度な光学遮断およびパターニングにおける業界標準となっています。その特性は以下の通りです：
- 高い光学密度（OD）： クロムコーティングは、光の透過を効果的に遮断します。膜厚を精密に制御することで、特定の光学密度（例：OD 3.0、4.0、または5.0以上）を実現し、コーティングされた領域からの光漏れを完全に防止します。.
- 抜群の密着性： クロムは、ガラス（二酸化ケイ素）と自然かつ化学的に結合します。剥がれたり、はがれたりすることはなく、標準的なテープ接着試験でも問題が生じません。.
- 極めて高い耐久性： クロムは、その硬さで知られる金属です。この金属を用いたコーティングは耐傷性に優れており、乱暴な取り扱い、超音波洗浄、過酷な環境にも耐えることができます。.
- 優れたエッジの鮮明さ： エッチングを施しても、クロムは他の金属コーティングに見られるようなギザギザがなく、極めてシャープできれいなエッジを維持するため、微細パターニングに最適です。.
当社のコーティングおよびパターニング技術
当社は単にガラスにコーティングを施すだけでなく、お客様の厳密な仕様に合わせて設計・製造いたします。当社の提供できるサービスには、以下のものが含まれます：
- ピンホールのない成膜： 最先端のマグネトロンスパッタリング技術を活用し、レーザーやイメージング用途において不可欠な、高密度で均一、かつピンホールが一切ないクロム膜を成膜します。.
- 低反射（AR）クローム： 標準のクロムは反射率が高いです。リソグラフィーのように、内部反射によって「ゴースト」が発生する用途には、弊社では 反射防止クロム（Cr + CrxOy層） 高いOD遮断性能と、極めて低い表面反射率を実現する。.
- 高精度フォトリソグラフィおよびウェット／ドライエッチング： 複雑な形状、格子、開口部をクロム層に直接エッチングすることができます。当社のプロセスでは、 ミクロンおよびサブミクロンの微細構造サイズ 極めて厳しい公差で。.
- 基板の汎用性： お客様のUV/VIS/IR透過率に関するご要望に応じて、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス（B270/ボロフロート）、石英、溶融シリカなど、さまざまな研磨済み基板にクロムコーティングを施しています。.
クロムガラスの一般的な用途
当社の特注のクロムメッキ加工および模様入り基板は、世界中のハイテクシステムに組み込まれています：
- フォトマスクおよびレチクル： 半導体のリソグラフィ、プリント基板（PCB）の製造、およびMEMSの製造に使用されます。.
- マシンビジョン用キャリブレーションターゲット： カメラや光学センサーのキャリブレーション用の高精度チェッカーボード、ドットグリッド、および解像度テストチャート。.
- 光学スリットとピンホール： 分光計、分光光度計、およびレーザー光学における空間フィルタリングに不可欠な構成要素。.
- 絞り・エンコーダ： 特注形状の遮光窓および高精度のロータリー／リニアエンコーダディスク。.
特注製品の製作見積もりを依頼する
無地のクロムブランクから、複雑で精密にエッチングされた光学ターゲットに至るまで、試作から量産に至るまで、お客様のプロジェクトを全面的にサポートいたします。.
正確なお見積もりをご提示するため、以下の情報をお知らせください：
- 基板材料： （例：可視光用にはソーダ・ライムガラス、UV用途用には溶融石英など）。.
- 光学密度（OD）： または、必要なクロムメッキの厚さ（例：外径 3.0 以上）。.
- コーティングの種類： 標準の反射型クロームか、低反射（AR）クロームか？
- パターン作成の要件： エッチングが必要な場合は、CADファイルまたはガーバーファイルを添付するか、最小フィーチャーサイズ（例：5μmのスリット）をご明記ください。.
