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석영 유리 및 용융 실리카 부품

아놀(Anole)은 광학, 반도체, 레이저, 실험실 및 고온 산업 분야에 사용되는 정밀 석영 유리 및 용융 실리카 부품을 공급합니다. 뛰어난 자외선 투과율, 낮은 열팽창계수, 높은 내화학성 및 안정적인 광학적 성능을 갖춘 석영 유리는 창, 디스크, 판, 렌즈, 웨이퍼, 튜브 및 맞춤형 가공 부품에 널리 사용됩니다. 당사는 도면, 치수, 공차 및 작업 조건에 따라 소재 선정, 절단, 연삭, 연마, CNC 가공, 미세 구멍 가공 및 광학 코팅 서비스를 지원합니다.

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상세 정보 소개

정밀 용융 석영 유리 – 뛰어난 광학적 및 열적 성능

  • 융합 석영 유리는 광학 재료 과학의 정점을 대표하며, 다음과 같은 성능을 제공합니다.
  • 자외선, 가시광선, 적외선 파장 전반에 걸쳐 타의 추종을 불허하는 투명성.
  • 아놀(Anole)은 반도체 리소그래피용 정밀 용융 석영 부품을 제조하며,
  • 레이저 광학, 분광학 및 다음과 같은 고온 산업 분야
  • 일반 유리는 이를 해낼 수 없습니다.
  • 열팽창 계수(CTE ≈ 0.5 × 10⁻⁶ /°C)가 거의 0에 가까우며, 탁월한 화학적
  • 불활성, 200–2500 nm 파장 범위에서 95%를 초과하는 광 투과율, 용융 석영
  • 이는 미션 크리티컬 광학 시스템에 가장 적합한 소재입니다.
석영 유리의 정밀 미세 구멍 가공

왜 융합 석영 유리를 선택해야 할까요?

✓ 극자외선 투과성
용융 석영은 심자외선(200 nm 이하)을 거의 손실 없이 투과합니다.
흡수 특성으로 인해 자외선 리소그래피 마스크, 엑시머 레이저 광학 부품 등에 필수적인 소재로,
및 분광 분석 기기. 일반적인 보로실리케이트 유리는 불투명해지며
자외선(UV) 영역에서.

✓ 열적 안정성 및 낮은 열팽창 계수(CTE)
0에 가까운 열팽창 계수(0.5 × 10⁻⁶ /°C) 덕분에 치수 안정성이 보장됩니다.
극한 온도 범위(–50 °C ~ 1000+ °C) 전반에 걸친 안정성. 다음 용도에 이상적입니다.
정밀 광학 벤치, 고온로 창, 열화상
시스템.

✓ 뛰어난 내화학성
융합 석영은 사실상 모든 산, 알칼리 및 유기 용매의 부식에 강합니다.
불화수소를 제외하고는. 이러한 화학적 불활성 덕분에 이 물질이 선호되는 재료로 꼽히며
실험실용 유리 기구, 화학 반응기 및 바이오의약품 공정 용기에 사용됩니다.

✓ 광학적 균일성 및 낮은 이방성
굴절률 균일성을 엄격히 관리하고 응력을 최소화하여 제조되었습니다.
이방성 특성 덕분에, 용융 석영은 넓은 범위에서 일관된 광학 성능을 발휘합니다.
개구부—정밀 이미징, 간섭계 측정 및 레이저 빔 전달에 있어 매우 중요한 요소입니다.

융합 석영 소재 등급 및 기술 사양

코닝 7980 (초저 OH)
• 굴절률: 1.45850 (589 nm)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• OH 함량: 95% (200–2500 nm)
• 밀도: 2.203 g/cm³
• 연화점: 1710 °C
• 적용 분야: 리소그래피 마스크, 고정밀 광학 부품, 자외선(UV) 시스템

코닝 7979 (표준 등급)
• 굴절률: 1.45850 (589 nm)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• OH 함량: 50–200 ppm
• 투과율: > 92% (200–2500 nm)
• 밀도: 2.203 g/cm³
• 연화점: 1710 °C
• 용도: 일반 광학 부품, 실험실 유리 기구

헤라에우스 코반틱스 312
• 굴절률: 1.4585 (589 nm에서)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• 기포 밀도: 95% (200–2500 nm)
• 균일성: 굴절률 ±0.0001
• 적용 분야: 고출력 레이저 광학, 정밀 광학 시스템

토소 쿼츠
• 굴절률: 1.4585 (589 nm에서)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• OH 함량: 가변 (낮은 수준부터 초저 수준까지 선택 가능)
• 투과율: > 93% (200–2500 nm)
• 순도: 99.99%+ SiO₂
• 적용 분야: 반도체 공정, 분석 기기

OHARA 융합 석영
• 굴절률: 1.4585 (589 nm에서)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• 맞춤형 파장 최적화 가능
• 투과율: > 94% (200–2500 nm)
• 적용 분야: 특수 레이저 및 분광학 응용 분야

모멘티브 용융 실리카
• 굴절률: 1.4585 (589 nm에서)
• 열팽창 계수: 0.5 × 10⁻⁶ /°C
• 적외선 투과형 모델도 제공됩니다
• 투과율: > 95% (200–3000 nm)
• 적용 분야: 열화상, 적외선 광학

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