Das beidseitige Polieren wird eingesetzt, um beide Oberflächen von Präzisionsglas, Quarz, Quarzglas, Saphir, Silizium, Glaskeramik und optischen Substraten zu verbessern, bei denen strenge Anforderungen an Oberflächenqualität, Ebenheit, Parallelität und Dickenkontrolle gestellt werden. Mit einer erreichbaren Oberflächenrauheit unter 0,5 nm Ra, einem TTV unter 2 μm und einer Ebenheit von bis zu λ/4 oder besser, je nach Anforderung, eignet sich dieses Verfahren für hochpräzise Anwendungen in den Bereichen Optik, Halbleitertechnik, Lasertechnik, Messtechnik und Luft- und Raumfahrt.
Wir bieten maßgeschneiderte Dienstleistungen im Bereich der beidseitigen Politur für Prototypen und Serienfertigung an und unterstützen dabei Substratgrößen von 10 bis 300 mm sowie Dicken von 0,3 bis 50 mm. Die fertigen Teile können gemäß den Anforderungen der Zeichnung geliefert werden, wahlweise mit AR-, HR-, ITO- oder Metallbeschichtung sowie bei Bedarf mit Prüfunterlagen wie Messprotokollen und CoC.
