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Metallisierung / Metallbeschichtung
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Komponenten aus Quarzglas und Quarzglas (Fused Silica)

Anole liefert Präzisionskomponenten aus Quarzglas und Quarzglas (Quartz) für Anwendungen in den Bereichen Optik, Halbleitertechnik, Lasertechnik, Labortechnik und Hochtemperatur-Industrie. Dank seiner hervorragenden UV-Durchlässigkeit, geringen Wärmeausdehnung, hohen chemischen Beständigkeit und stabilen optischen Eigenschaften wird Quarzglas häufig für Fenster, Scheiben, Platten, Linsen, Wafer, Rohre und kundenspezifisch gefertigte Teile verwendet. Wir bieten Unterstützung bei der Materialauswahl, beim Schneiden, Schleifen, Polieren, bei der CNC-Bearbeitung, der Mikrobohrbearbeitung und der optischen Beschichtung gemäß Zeichnungen, Abmessungen, Toleranzen und Einsatzbedingungen.

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Details – Einleitung

Präzisions-Quarzglas – Hervorragende optische und thermische Eigenschaften

  • Geschmolzenes Quarzglas stellt den Höhepunkt der optischen Materialwissenschaft dar und bietet
  • Unübertroffene Transparenz über den gesamten Wellenlängenbereich von Ultraviolett über das sichtbare Licht bis hin zum Infrarot.
  • Anole stellt Präzisionskomponenten aus Quarzglas für die Halbleiterlithografie her,
  • Laseroptik, Spektroskopie und industrielle Hochtemperaturanwendungen, bei denen
  • Herkömmliches Glas kann dies nicht leisten.
  • Mit einer thermischen Ausdehnung nahe Null (CTE ≈ 0,5 × 10⁻⁶ /°C) und außergewöhnlicher chemischer
  • Inertheit und eine optische Durchlässigkeit von über 95% im Wellenlängenbereich von 200–2500 nm, Quarzglas
  • ist das Material der Wahl für missionskritische optische Systeme.
Präzisionsbearbeitung von Mikrobohrungen in Quarzglas

Warum sollte man sich für Quarzglas entscheiden?

✓ Extreme UV-Transparenz
Schmelzquarz lässt tiefes ultraviolettes Licht (200 nm und darunter) mit minimaler
Absorption, wodurch es für Masken in der UV-Lithografie und für die Optik von Excimer-Lasern unverzichtbar ist,
sowie spektroskopische Messgeräte. Herkömmliches Borosilikatglas wird undurchsichtig
im UV-Bereich.

✓ Thermische Stabilität und niedriger CTE
Der thermische Ausdehnungskoeffizient nahe Null (0,5 × 10⁻⁶ /°C) gewährleistet die Maßhaltigkeit
Stabilität über extreme Temperaturbereiche hinweg (–50 °C bis über 1000 °C). Ideal für
Präzisions-Optikbänke, Hochtemperatur-Ofenfenster und Wärmebildtechnik
Systeme.

✓ Hervorragende Chemikalienbeständigkeit
Quarzglas ist beständig gegen Angriffe durch nahezu alle Säuren, Laugen und organischen Lösungsmittel
mit Ausnahme von Flusssäure. Aufgrund dieser chemischen Inertheit ist es das bevorzugte Material
für Laborglasgeräte, chemische Reaktoren und biopharmazeutische Prozessbehälter.

✓ Optische Homogenität und geringe Doppelbrechung
Hergestellt unter strenger Kontrolle der Gleichmäßigkeit des Brechungsindexes und bei minimaler Spannung
Doppelbrechung: Quarzglas bietet über große Bereiche hinweg eine gleichbleibende optische Leistung
Blenden – entscheidend für die Präzisionsbildgebung, die Interferometrie und die Laserstrahlführung.

Materialgüten und technische Spezifikationen für geschmolzenen Quarz

Corning 7980 (extrem niedriger OH-Gehalt)
• Brechungsindex: 1,45850 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• OH-Gehalt: 95% (200–2500 nm)
• Dichte: 2,203 g/cm³
• Erweichungspunkt: 1710 °C
• Anwendungsbereiche: Lithografiemasken, Hochpräzisionsoptik, UV-Systeme

Corning 7979 (Standardqualität)
• Brechungsindex: 1,45850 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• OH-Gehalt: 50–200 ppm
• Durchlässigkeit: > 92% (200–2500 nm)
• Dichte: 2,203 g/cm³
• Erweichungspunkt: 1710 °C
• Anwendungsbereiche: Allgemeine optische Komponenten, Laborglaswaren

Heraeus Covantics 312
• Brechungsindex: 1,4585 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• BlasenDichte: 95% (200–2500 nm)
• Homogenität: ±0,0001 Brechungsindex
• Anwendungsbereiche: Hochleistungslaseroptik, optische Präzisionssysteme

Tosoh-Quarz
• Brechungsindex: 1,4585 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• OH-Gehalt: variabel (Optionen von niedrig bis extrem niedrig)
• Lichtdurchlässigkeit: > 93% (200–2500 nm)
• Reinheit: 99,991 TP3T+ SiO₂
• Anwendungsbereiche: Halbleiterfertigung, Analysetechnik

OHARA-Quarzglas
• Brechungsindex: 1,4585 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• Spezifische Wellenlängenoptimierung möglich
• Durchlässigkeit: > 94% (200–2500 nm)
• Anwendungsbereiche: Spezielle Laser- und Spektroskopieanwendungen

Momentive Quarzglas
• Brechungsindex: 1,4585 bei 589 nm
• Thermische Ausdehnung: 0,5 × 10⁻⁶ /°C
• Varianten mit IR-Durchlässigkeit erhältlich
• Durchlässigkeit: > 95% (200–3000 nm)
• Anwendungsbereiche: Wärmebildtechnik, Infrarotoptik

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