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SCHOTT® Lithosil Q – synthetisches Quarzglas

SCHOTT® Lithosil Q is a high-purity synthetic fused silica material designed for demanding UV, optical, semiconductor, laser and scientific applications. With high SiO₂ purity above 99.99%, excellent deep-UV transmission from 170–2500 nm, low thermal expansion of 0.51 × 10⁻⁶ /°C and strong optical homogeneity up to Δn ≤ 1 × 10⁻⁶, Lithosil Q is suitable for precision components that require stable optical performance, low impurity levels and reliable resistance to thermal stress.

We supply customized SCHOTT® Lithosil Q fused silica components according to drawings, dimensions, thickness requirements and application conditions. Typical products include UV optical windows, semiconductor process windows, excimer laser optics, spectroscopy components, telescope lenses, mirror substrates and other high-precision fused silica parts for optical and industrial projects.

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Details – Einleitung

1. Grundlegende Informationen

Artikel	Spezifikation
Materialart	Synthetisches Quarzglas
Marke	SCHOTT®
Note	Lithosil Q
Typischer OH-Gehalt	≈ 600–1200 ppm (hoher OH-Gehalt)
Dichte	2,20 g/cm³

2. Mechanical Properties

Artikel	Spezifikation
Elastizitätsmodul	72,7 GPa
Schermodul	31,4 GPa
Poisson-Zahl	0.17
Knoop-Härte	≈ 522 kg/mm²
Biegefestigkeit	≈ 67 MPa

3. Thermal Properties

Artikel	Spezifikation
CTE (0–300 °C)	0,51 × 10⁻⁶ /°C
Erweichungspunkt	≈ 1585 °C
Glühepunkt	≈ 1042 °C
Dehnungspunkt	≈ 890 °C
Wärmeleitfähigkeit	1,38 W/(m·K)

4. Optische Eigenschaften

Artikel	Spezifikation
Brechungsindex bei 587,6 nm	1.4585
Abbe-Zahl	67.8
Übertragungsreichweite	170–2500 nm
UV-Durchlässigkeit	Hervorragend (Tief-UV)
Homogenität	Δn ≤ 1 × 10⁻⁶

5. Chemical Purity

Artikel	Spezifikation
SiO₂-Gehalt	> 99,99%
Metallverunreinigungen	< 1 ppm (insgesamt)
Blasen und Einschlüsse	Extrem niedrig
Chemikalienbeständigkeit	Hervorragend (außer HF)

6. Typische Anwendungsbereiche

Feld	Anwendung
Halbleiter	Photolithography Optics, Process Windows
Laser	193 nm / 248 nm Excimer Laser Optics
Astronomie	Telescope Lenses & Mirror Substrates
Wissenschaftlich	UV Spectroscopy & High-End Instrumentation

7. UV-Grade Fused Silica — Grade Comparison

Eigenschaft	SCHOTT® Lithosil Q	Corning® 7980	Heraeus® Suprasil 1	Tosoh® ES-2000
Materialart	Synthetisches Quarzglas	Synthetisches Quarzglas	Synthetisches Quarzglas	Synthetisches Quarzglas
OH Content	600–1200 ppm	800–1000 ppm	600–1200 ppm	600–1000 ppm
Übertragungsreichweite	170–2500 nm	180–2500 nm	170–2500 nm	170–2500 nm
Homogeneity (Δn)	≤ 1 × 10⁻⁶	≤ 1 × 10⁻⁶	≤ 1 × 10⁻⁶	≤ 2 × 10⁻⁶
CTE (0–300 °C)	0,51 × 10⁻⁶ /°C	0.52 × 10⁻⁶ /°C	0,51 × 10⁻⁶ /°C	0,51 × 10⁻⁶ /°C
Elastizitätsmodul	72,7 GPa	72,7 GPa	72,7 GPa	72,5 GPa
SiO₂ Purity	> 99,99%	> 99,99%	> 99,99%	> 99,99%
Herkunft der Marke	Deutschland	USA	Deutschland	Japan
Branchenstärke	Precision Optics & Astronomy	Semiconductor & UV Laser	European Optics & Laser	Semiconductor & Asia-Pacific