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SCHOTT® Lithosil Q : silice fondue synthétique

SCHOTT® Lithosil Q est un matériau en silice fondue synthétique de haute pureté, conçu pour les applications exigeantes dans les domaines des UV, de l'optique, des semi-conducteurs, des lasers et de la recherche scientifique. Avec une pureté en SiO₂ supérieure à 99,991 %, une excellente transmission dans l'ultraviolet profond de 170 à 2 500 nm, un faible coefficient de dilatation thermique de 0,51 × 10⁻⁶ /°C et une grande homogénéité optique (Δn ≤ 1 × 10⁻⁶), le Lithosil Q convient aux composants de précision qui exigent des performances optiques stables, de faibles niveaux d’impuretés et une résistance fiable aux contraintes thermiques.

Nous fournissons des composants en silice fondue SCHOTT® Lithosil Q sur mesure, conformément aux plans, dimensions, épaisseurs requises et conditions d'utilisation. Parmi nos produits phares, on trouve notamment des fenêtres optiques UV, des fenêtres pour processus semi-conducteurs, des optiques pour lasers à excimère, des composants de spectroscopie, des lentilles de télescope, des substrats de miroirs et d'autres pièces de haute précision en silice fondue destinées à des projets optiques et industriels.

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Détails - Introduction

1. Informations générales

ArticleCaractéristiques techniques
Type de matériauSilice fondue synthétique
MarqueSCHOTT®
NiveauLithosil Q
Teneur typique en OH≈ 600 à 1 200 ppm (teneur élevée en OH)
Densité2,20 g/cm³

2. Propriétés mécaniques

ArticleCaractéristiques techniques
Module d'Young72,7 GPa
Module de cisaillement31,4 GPa
Coefficient de Poisson0.17
Dureté Knoop≈ 522 kg/mm²
Résistance à la flexion≈ 67 MPa

3. Propriétés thermiques

ArticleCaractéristiques techniques
CTE (0–300 °C)0,51 × 10⁻⁶ /°C
Point de ramollissement≈ 1 585 °C
Point de recuit≈ 1 042 °C
Point de déformation≈ 890 °C
Conductivité thermique1,38 W/(m·K)

4. Propriétés optiques

ArticleCaractéristiques techniques
Indice de réfraction à 587,6 nm1.4585
Nombre d'Abbe67.8
Plage de transmission170–2 500 nm
Transmission des UVExcellent (UV profond)
HomogénéitéΔn ≤ 1 × 10⁻⁶

5. Pureté chimique

ArticleCaractéristiques techniques
Teneur en SiO₂> 99,99%
Impuretés métalliques< 1 ppm (total)
Bulles et inclusionsExtrêmement bas
Résistance chimiqueExcellent (sauf HF)

6. Applications typiques

ChampApplications
Semi-conducteurOptique de photolithographie, fenêtres de processus
LaserOptique pour laser à excimère de 193 nm / 248 nm
AstronomieLentilles de télescope et substrats de miroirs
ScientifiqueSpectroscopie UV et instrumentation de pointe

7. Silice fondue de qualité UV — Comparaison des qualités

Biens immobiliersSCHOTT® Lithosil QCorning® 7980Heraeus® Suprasil 1Tosoh® ES-2000
Type de matériauSilice fondue synthétiqueSilice fondue synthétiqueSilice fondue synthétiqueSilice fondue synthétique
Teneur en OH600 à 1 200 ppm800 à 1 000 ppm600 à 1 200 ppm600 à 1 000 ppm
Plage de transmission170–2 500 nm180 à 2 500 nm170–2 500 nm170–2 500 nm
Homogénéité (Δn)≤ 1 × 10⁻⁶≤ 1 × 10⁻⁶≤ 1 × 10⁻⁶≤ 2 × 10⁻⁶
CTE (0–300 °C)0,51 × 10⁻⁶ /°C0,52 × 10⁻⁶ /°C0,51 × 10⁻⁶ /°C0,51 × 10⁻⁶ /°C
Module d'Young72,7 GPa72,7 GPa72,7 GPa72,5 GPa
Pureté du SiO₂> 99,99%> 99,99%> 99,99%> 99,99%
Origine de la marqueAllemagneÉtats-UnisAllemagneJapon
Atouts du secteurOptique de précision et astronomieLasers à semi-conducteurs et UVOptique et laser en EuropeSemi-conducteurs et Asie-Pacifique

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