1. 基本情報
| 品目 | 仕様 |
|---|---|
| 材料の種類 | 合成溶融シリカ |
| ブランド | SCHOTT® |
| 学年 | リトシル Q |
| 代表的なOH含有量 | ≈ 600～1200 ppm（OH濃度が高い） |
| 密度 | 2.20 g/cm³ |
2. 機械的特性
| 品目 | 仕様 |
|---|---|
| ヤング率 | 72.7 GPa |
| せん断弾性率 | 31.4 GPa |
| ポアソン比 | 0.17 |
| クノープ硬度 | ≈ 522 kg/mm² |
| 曲げ強度 | ≈ 67 MPa |
3. 熱的特性
| 品目 | 仕様 |
|---|---|
| CTE（0～300°C） | 0.51 × 10⁻⁶ /°C |
| 軟化点 | ≈ 1585°C |
| アニーリングポイント | ≈ 1042°C |
| ひずみ点 | ≈ 890°C |
| 熱伝導率 | 1.38 W/(m·K) |
4. 光学特性
| 品目 | 仕様 |
|---|---|
| 587.6 nmにおける屈折率 | 1.4585 |
| アッベ数 | 67.8 |
| 伝達範囲 | 170～2500 nm |
| 紫外線透過率 | 優秀（深紫外線） |
| 均質性 | Δn ≤ 1 × 10⁻⁶ |
5. 化学的純度
| 品目 | 仕様 |
|---|---|
| SiO₂含有量 | > 99.99% |
| 金属不純物 | < 1 ppm（合計） |
| 気泡と内包物 | 極めて低い |
| 耐薬品性 | 素晴らしい（HFを除く） |
6. 代表的な用途
| フィールド | 用途 |
|---|---|
| 半導体 | フォトリソグラフィ用光学系、プロセスウィンドウ |
| レーザー | 193 nm / 248 nm エキシマレーザー用光学系 |
| 天文学 | 望遠鏡用レンズおよび鏡面基板 |
| 科学的 | UV分光法およびハイエンド計測機器 |
7. UV用溶融石英 — グレード比較
| 物件 | SCHOTT® Lithosil Q | コーニング® 7980 | Heraeus® Suprasil 1 | Tosoh® ES-2000 |
|---|---|---|---|---|
| 材料の種類 | 合成溶融シリカ | 合成溶融シリカ | 合成溶融シリカ | 合成溶融シリカ |
| OH含有量 | 600～1200 ppm | 800～1000 ppm | 600～1200 ppm | 600～1000 ppm |
| 伝達範囲 | 170～2500 nm | 180～2500 nm | 170～2500 nm | 170～2500 nm |
| 均一性（Δn） | ≤ 1 × 10⁻⁶ | ≤ 1 × 10⁻⁶ | ≤ 1 × 10⁻⁶ | ≤ 2 × 10⁻⁶ |
| CTE（0～300°C） | 0.51 × 10⁻⁶ /°C | 0.52 × 10⁻⁶ /°C | 0.51 × 10⁻⁶ /°C | 0.51 × 10⁻⁶ /°C |
| ヤング率 | 72.7 GPa | 72.7 GPa | 72.7 GPa | 72.5 GPa |
| SiO₂の純度 | > 99.99% | > 99.99% | > 99.99% | > 99.99% |
| ブランドの起源 | ドイツ | アメリカ | ドイツ | 日本 |
| 業界の強み | 精密光学・天文学 | 半導体およびUVレーザー | European Optics & Laser | 半導体・アジア太平洋地域 |
