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Tosoh® ES-2000 合成溶融石英

Tosoh® ES-2000は、UV光学素子、半導体プロセス用部品、エキシマレーザー用窓、および精密計測用部品向けの、高純度合成融解石英材料です。 170~2500 nmの透過率、0.51 × 10⁻⁶ /°Cという低い熱膨張率、および99.99%以上のSiO₂純度を備えており、安定したUV性能、低不純物レベル、および信頼性の高い寸法管理が求められる部品に適しています。.

当社は、Tosoh® ES-2000 溶融石英について、図面、厚さ、表面品質、および用途要件に基づき、切断、研削、研磨、穴あけなどの加工を行っています。.

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詳細 概要

1. 基本情報

品目仕様
材料の種類合成溶融シリカ
ブランドTosoh®
学年ES-2000
代表的なOH含有量≈ 600~1000 ppm(OH濃度が高い)
密度2.20 g/cm³

2. 熱的特性

品目仕様
CTE(0~300°C)0.51 × 10⁻⁶ /°C
軟化点≈ 1585°C
アニーリングポイント≈ 1042°C
ひずみ点≈ 890°C
熱伝導率1.38 W/(m·K)

3. 機械的特性

品目仕様
ヤング率72.5 GPa
せん断弾性率31.2 GPa
ポアソン比0.17
クノープ硬度≈ 520 kg/mm²
曲げ強度≈ 65 MPa

4. 光学特性

品目仕様
587.6 nmにおける屈折率1.4584
アッベ数67.7
伝達範囲170~2500 nm
紫外線透過率優秀(深紫外線)
均質性Δn ≤ 2 × 10⁻⁶

5. 電気的特性

品目仕様
誘電率(20°C、1 MHz)3.75
ロスタンジェント≈ 0.0001
体積抵抗率> 10¹⁸ Ω・cm
絶縁耐力≈ 250~400 kV/cm

6. 化学的純度

品目仕様
SiO₂含有量> 99.99%
金属不純物< 1 ppm(合計)
気泡と内包物極めて低い
耐薬品性素晴らしい(HFを除く)

7. 代表的な用途

フィールド用途
半導体フォトリソグラフィ用ウィンドウ、拡散チューブ、ウェーハキャリア
光学UV光学素子、精密レンズ
レーザーエキシマレーザー用光学素子、UVレーザー用ウィンドウ
計量学基準平板、光学標準器

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