유리 재료
유리 세라믹
석영 유리 / 용융 실리카
보로실리케이트 유리
내열 유리 / 고온 유리
저팽창 유리 / 저열팽창계수 유리
초박형 유리
반도체용 유리
광학 유리
유리 가공
정밀 에칭 / 화학 에칭
유리 CNC 가공
유리 접합
양면 연마·폴리싱
레이저 가공 / 레이저 미세 가공
유리 절단
광학 코팅
반사 방지(AR) 코팅
적외선(IR) 반사 방지 코팅
소수성 코팅 및 인듐-주석 산화물(ITO)
금속화 / 메탈 코팅
지문 방지(AF) 코팅

센서 및 전극용 무늬가 있는 ITO 코팅 유리

무늬가 형성된 ITO 코팅 유리는 정밀하게 무늬가 형성된 인듐-주석 산화물(ITO) 층으로 설계된 투명 전도성 유리로, 뛰어난 전기 전도성과 높은 광 투과율을 제공합니다. 이 유리는 투명 기판 위에 정밀한 회로 패턴이 필요한 센서, 터치 전극, 디스플레이 장치 및 기타 전자 응용 분야에 널리 사용됩니다.

당사는 다양한 센서 및 전극 제조 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 패턴 설계, 시트 저항 제어 및 기판 옵션 등을 지원합니다. 기술 사양 및 공장 직거래 견적에 대해서는 당사로 문의해 주시기 바랍니다.

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상세 정보 소개

패턴형 ITO 코팅이란 무엇인가요?

패턴화 ITO 코팅은 인듐 주석 산화물(ITO)을 광학 기판에 증착한 후, 이를 전극, 트레이스, 접점 패드, 히터 라인, 센서 영역 또는 투명 전도성 창으로 선택적으로 패턴화하는 투명 전도성 박막 공정입니다. ITO는 가시광선 영역에서의 광학 투명성과 전기 전도성을 겸비하고 있어 터치 패널, 투명 전극, 디스플레이 부품, 광학 센서, 미세유체 칩 및 전기광학 소자에 가장 널리 사용되는 소재 중 하나입니다. 이 코팅은 일반적으로 마그네트론 스퍼터링을 통해 증착된 후, 고해상도 패턴의 경우 포토 리소그래피 및 습식 에칭을, 신속한 시제품 제작의 경우 레이저 어블레이션을, 특수한 형상의 경우 리프트오프 공정을 거칩니다. 막 두께, 산소 함량, 어닐링 조건 및 패터닝 방법을 제어함으로써, 패터닝된 ITO 코팅은 시트 저항, 광 투과율, 헤이즈, 접착력 및 에지 선명도에 따라 맞춤형으로 조정될 수 있습니다.

도장 성능 사양

매개변수 표준 범위 맞춤 제작 능력
시트 저항 10–100 Ω/sq 5 – 500 Ω/sq
광 투과율 > 85% @ 550 nm > 최적화된 얇은 ITO가 적용된 90%
필름 두께 50–200 nm 20–500 nm
최소 선 폭 25 µm 10 µm 포토리소그래피
패턴 정확도 ±5 µm 웨이퍼 기판상에서 ±2 µm
가장자리 거칠기 < 5 µm < 2 µm (최적화된 에칭 적용 시)
기판 크기 최대 200 mm 웨이퍼 최대 300 × 300 mm 패널

호환 가능한 재료

# 재료 일반적인 등급
1용융 실리카코닝 7980 / 토소 ES-2000
2석영 유리SCHOTT Lithosil Q / Heraeus Suprasil 1
3보로실리케이트 유리PYREX 7740 / BOROFLOAT 33
4소다-라임 유리플로트 / 디스플레이 등급
5광학 유리BK7 / N-BK7 / B270
6알루미노실리케이트 유리디스플레이 커버 글라스 / 화학 강화 유리
7사파이어C-평면 / A-평면
8실리콘열 산화막 / SiO₂ 코팅 웨이퍼
9세라믹 기판Al₂O₃ / AlN
10폴리머 필름PET/PEN, 저온 ITO
11코팅 유리SiO₂ / Si₃N₄ / AR 코팅이 된 기판

패터닝 및 공정 전략

  • 스퍼터링 ITO + 포토리소그래피: 투명 전극, 미세 트레이스 및 웨이퍼 레벨 ITO 패턴을 위한 표준 고해상도 공정
  • 습식 에칭을 이용한 ITO 패터닝: 리소그래피 공정 후 산성 에칭제를 사용하여 노출된 ITO를 제거함으로써, 깔끔한 가장자리와 안정적인 시트 저항을 구현합니다.
  • 레이저 어블레이션 패터닝: 시제품, 맞춤형 레이아웃, 신속한 설계 반복 및 소량 생산을 위한 마스크 없는 ITO 제거
  • 리프트오프 ITO 패터닝: 에칭 과정에서 하층이나 민감한 기판이 손상될 수 있는 특수한 전극 형상에 적합합니다.
  • 어닐링 처리된 저저항 ITO: 증착 후 어닐링은 결정성, 전도도, 접착력 및 광 투과율을 향상시킵니다.
  • ITO + 버스바 금속화: 선택 사양인 Cr/Au, Ti/Au, Ag 또는 Ni/Au 버스바는 접촉 저항을 줄이고 전류 분배를 개선합니다.

대표적인 적용 분야

  • 투명 전극: 전기광학 소자, 광 변조기, 액정 셀 및 센서 윈도우용 무늬가 있는 ITO 전극
  • 터치 패널: 유리 또는 화학 강화된 디스플레이 커버 글라스 위에 형성된 투명 전도성 트레이스 및 감지 그리드
  • 미세유체 칩: 전기습윤, 임피던스 감지, 전기화학적 검출 및 국소 가열을 위한 통합 ITO 전극
  • 투명 히터: 안개 방지 창, 광학 센서, 카메라 커버 및 저온 열 제어용 ITO 가열 패턴
  • 디스플레이 및 OLED 부품: OLED, LCD 및 투명 디스플레이 용도에 사용되는 무늬가 있는 양극층
  • 광학 센서 창: EMI 차폐, 전하 소산 및 능동형 광학 감지 시스템을 위한 전도성 투명 창

맞춤 사양

당사는 DXF, GDS-II, Gerber 파일 또는 고객이 제공한 전극 도면을 기반으로 맞춤형 패턴 ITO 코팅 주문을 접수합니다. 맞춤형 매개변수에는 시트 저항, ITO 두께, 투과율 목표치, 패턴 형상, 최소 선폭, 접점 패드 설계, 버스바 재질, 어닐링 온도 및 기판 세정 요구 사항이 포함됩니다. 시제품 및 양산 규모 모두 지원되며, 시트 저항 매핑, 광학 투과율 데이터, 선폭 측정, 접착력 테스트 결과, 현미경 가장자리 검사 등을 포함한 선택적 검사 보고서를 제공합니다. 집적형 소자의 경우, 패턴화 ITO를 AR 코팅, 금속 접점 증착, 유리 에칭, 웨이퍼 본딩, 레이저 절단 및 정밀 다이싱과 결합할 수 있습니다.

시트 저항 대 광 투과율

일반적인 ITO 코팅의 상충 관계 — 시트 저항을 낮추려면 박막 두께를 늘려야 하며, 이로 인해 가시광선 투과율이 감소한다 5 25 50 100 200 300 400 500 시트 저항 (Ω/sq) 80% 82% 84% 86% 88% 90% 92% 94% 95% 550 nm에서의 가시광 투과율 (%) 고온 ITO 300–500 Ω/sq 어닐링 처리된 ITO 5–200 Ω/sq 표준 ITO 10–500 Ω/sq 표준 패턴 ITO 사양 50 Ω/sq · T > 88% · 선폭 25 µm 90% 투과율 기준값 50 Ω/sq 공통 전극 사양 표준 스퍼터링 ITO 어닐링 처리된 저저항 ITO 투과율이 높은 박막 ITO

패턴형 ITO 코팅이란 무엇인가요?

패턴화 ITO 코팅은 인듐 주석 산화물(ITO)을 광학 기판에 증착한 후, 이를 전극, 트레이스, 접점 패드, 히터 라인, 센서 영역 또는 투명 전도성 창으로 선택적으로 패턴화하는 투명 전도성 박막 공정입니다. ITO는 가시광선 영역에서의 광학 투명성과 전기 전도성을 겸비하고 있어 터치 패널, 투명 전극, 디스플레이 부품, 광학 센서, 미세유체 칩 및 전기광학 소자에 가장 널리 사용되는 소재 중 하나입니다. 이 코팅은 일반적으로 마그네트론 스퍼터링을 통해 증착된 후, 고해상도 패턴의 경우 포토 리소그래피 및 습식 에칭을, 신속한 시제품 제작의 경우 레이저 어블레이션을, 특수한 형상의 경우 리프트오프 공정을 거칩니다. 막 두께, 산소 함량, 어닐링 조건 및 패터닝 방법을 제어함으로써, 패터닝된 ITO 코팅은 시트 저항, 광 투과율, 헤이즈, 접착력 및 에지 선명도에 따라 맞춤형으로 조정될 수 있습니다.

도장 성능 사양

매개변수표준 범위맞춤 제작 능력
시트 저항10–100 Ω/sq5 – 500 Ω/sq
광 투과율> 85% @ 550 nm> 최적화된 얇은 ITO가 적용된 90%
필름 두께50–200 nm20–500 nm
최소 선 폭25 µm10 µm 포토리소그래피
패턴 정확도±5 µm웨이퍼 기판상에서 ±2 µm
가장자리 거칠기< 5 µm< 2 µm (최적화된 에칭 적용 시)
기판 크기최대 200 mm 웨이퍼최대 300 × 300 mm 패널

호환 가능한 재료

재료일반적인 등급
1용융 실리카코닝 7980 / 토소 ES-2000
2석영 유리SCHOTT Lithosil Q / Heraeus Suprasil 1
3보로실리케이트 유리PYREX 7740 / BOROFLOAT 33
4소다-라임 유리플로트 / 디스플레이 등급
5광학 유리BK7 / N-BK7 / B270
6알루미노실리케이트 유리디스플레이 커버 글라스 / 화학 강화 유리
7사파이어C-평면 / A-평면
8실리콘열 산화막 / SiO₂ 코팅 웨이퍼
9세라믹 기판Al₂O₃ / AlN
10폴리머 필름PET/PEN, 저온 ITO
11코팅 유리SiO₂ / Si₃N₄ / AR 코팅이 된 기판

패터닝 및 공정 전략

  • 스퍼터링 ITO + 포토리소그래피: 투명 전극, 미세 트레이스 및 웨이퍼 레벨 ITO 패턴을 위한 표준 고해상도 공정
  • 습식 에칭을 이용한 ITO 패터닝: 리소그래피 공정 후 산성 에칭제를 사용하여 노출된 ITO를 제거함으로써, 깔끔한 가장자리와 안정적인 시트 저항을 구현합니다.
  • 레이저 어블레이션 패터닝: 시제품, 맞춤형 레이아웃, 신속한 설계 반복 및 소량 생산을 위한 마스크 없는 ITO 제거
  • 리프트오프 ITO 패터닝: 에칭 과정에서 하층이나 민감한 기판이 손상될 수 있는 특수한 전극 형상에 적합합니다.
  • 어닐링 처리된 저저항 ITO: 증착 후 어닐링은 결정성, 전도도, 접착력 및 광 투과율을 향상시킵니다.
  • ITO + 버스바 금속화: 선택 사양인 Cr/Au, Ti/Au, Ag 또는 Ni/Au 버스바는 접촉 저항을 줄이고 전류 분배를 개선합니다.

대표적인 적용 분야

  • 투명 전극: 전기광학 소자, 광 변조기, 액정 셀 및 센서 윈도우용 무늬가 있는 ITO 전극
  • 터치 패널: 유리 또는 화학 강화된 디스플레이 커버 글라스 위에 형성된 투명 전도성 트레이스 및 감지 그리드
  • 미세유체 칩: 전기습윤, 임피던스 감지, 전기화학적 검출 및 국소 가열을 위한 통합 ITO 전극
  • 투명 히터: 안개 방지 창, 광학 센서, 카메라 커버 및 저온 열 제어용 ITO 가열 패턴
  • 디스플레이 및 OLED 부품: OLED, LCD 및 투명 디스플레이 용도에 사용되는 무늬가 있는 양극층
  • 광학 센서 창: EMI 차폐, 전하 소산 및 능동형 광학 감지 시스템을 위한 전도성 투명 창

맞춤 사양

당사는 DXF, GDS-II, Gerber 파일 또는 고객이 제공한 전극 도면을 기반으로 맞춤형 패턴 ITO 코팅 주문을 접수합니다. 맞춤형 매개변수에는 시트 저항, ITO 두께, 투과율 목표치, 패턴 형상, 최소 선폭, 접점 패드 설계, 버스바 재질, 어닐링 온도 및 기판 세정 요구 사항이 포함됩니다. 시제품 및 양산 규모 모두 지원되며, 시트 저항 매핑, 광학 투과율 데이터, 선폭 측정, 접착력 테스트 결과, 현미경 가장자리 검사 등을 포함한 선택적 검사 보고서를 제공합니다. 집적형 소자의 경우, 패턴화 ITO를 AR 코팅, 금속 접점 증착, 유리 에칭, 웨이퍼 본딩, 레이저 절단 및 정밀 다이싱과 결합할 수 있습니다.

시트 저항 대 광 투과율

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