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SCHOTT® Lithosil Q 합성 용융 실리카

SCHOTT® Lithosil Q는 까다로운 UV, 광학, 반도체, 레이저 및 과학 분야 용도로 설계된 고순도 합성 용융 실리카 소재입니다. 99.99% 이상의 높은 SiO₂ 순도, 170–2500 nm 범위의 뛰어난 심자외선 투과율, 0.51 × 10⁻⁶ /°C의 낮은 열팽창 계수, 그리고 Δn ≤ 1 × 10⁻⁶에 달하는 뛰어난 광학적 균일성을 갖춘 Lithosil Q는 안정적인 광학적 성능, 낮은 불순물 수준 및 신뢰할 수 있는 열 응력 저항성이 요구되는 정밀 부품에 적합합니다.

당사는 도면, 치수, 두께 사양 및 적용 조건에 따라 맞춤형 SCHOTT® Lithosil Q 용융 실리카 부품을 공급합니다. 대표적인 제품으로는 UV 광학 창, 반도체 공정용 창, 엑시머 레이저 광학 부품, 분광학 부품, 망원경 렌즈, 거울 기판 및 광학 및 산업 프로젝트용 기타 고정밀 용융 실리카 부품 등이 있습니다.

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상세 정보 소개

1. 기본 정보

항목사양
재료 유형합성 용융 실리카
브랜드SCHOTT®
등급리토실 Q
일반적인 OH 함량≈ 600–1200 ppm (OH 농도 높음)
밀도2.20 g/cm³

2. 기계적 특성

항목사양
영의 계수72.7 GPa
전단 탄성계수31.4 GPa
푸아송 비0.17
크누프 경도≈ 522 kg/mm²
굽힘 강도≈ 67 MPa

3. 열적 특성

항목사양
CTE (0–300°C)0.51 × 10⁻⁶ /°C
연화점≈ 1585°C
어닐링점≈ 1042°C
변형점≈ 890°C
열전도도1.38 W/(m·K)

4. 광학적 특성

항목사양
587.6 nm에서의 굴절률1.4585
아베 수67.8
변속 범위170–2500 nm
자외선 투과율탁월함 (심자외선)
균질성Δn ≤ 1 × 10⁻⁶

5. 화학적 순도

항목사양
SiO₂ 함량> 99.99%
금속 불순물< 1 ppm (총량)
기포와 내포물극히 낮음
내화학성훌륭함 (HF 제외)

6. 대표적인 응용 분야

분야응용 분야
반도체포토리소그래피 광학, 공정 윈도우
레이저193 nm / 248 nm 엑시머 레이저 광학 부품
천문학망원경 렌즈 및 거울 기판
과학적자외선 분광법 및 고성능 계측 장비

7. UV 등급 용융 실리카 — 등급 비교

속성SCHOTT® Lithosil Q코닝® 7980Heraeus® Suprasil 1Tosoh® ES-2000
재료 유형합성 용융 실리카합성 용융 실리카합성 용융 실리카합성 용융 실리카
OH 콘텐츠600–1200 ppm800–1000 ppm600–1200 ppm600–1000 ppm
변속 범위170–2500 nm180–2500 nm170–2500 nm170–2500 nm
균질도 (Δn)≤ 1 × 10⁻⁶≤ 1 × 10⁻⁶≤ 1 × 10⁻⁶≤ 2 × 10⁻⁶
CTE (0–300°C)0.51 × 10⁻⁶ /°C0.52 × 10⁻⁶ /°C0.51 × 10⁻⁶ /°C0.51 × 10⁻⁶ /°C
영의 계수72.7 GPa72.7 GPa72.7 GPa72.5 GPa
SiO₂ 순도> 99.99%> 99.99%> 99.99%> 99.99%
브랜드의 기원독일미국독일일본
업계 강점정밀 광학 및 천문학반도체 및 UV 레이저유럽 광학 및 레이저반도체 및 아시아·태평양 지역

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