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Tosoh® ES-2000 합성 용융 실리카

Tosoh® ES-2000은 UV 광학 부품, 반도체 공정 부품, 엑시머 레이저 윈도우 및 정밀 계측 부품에 사용되는 고순도 합성 용융 실리카 소재입니다. 170–2500 nm의 투과율, 0.51 × 10⁻⁶ /°C의 낮은 열팽창 계수, 99.99% 이상의 SiO₂ 순도를 갖추고 있어, 안정적인 자외선 성능, 낮은 불순물 함량 및 신뢰할 수 있는 치수 제어가 요구되는 부품에 적합합니다.

당사는 도면, 두께, 표면 품질 및 용도 요구 사항에 따라 Tosoh® ES-2000 용융 실리카를 가공하며, 여기에는 절단, 연마, 광택 처리 및 천공이 포함됩니다.

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상세 정보 소개

1. 기본 정보

항목사양
재료 유형합성 용융 실리카
브랜드Tosoh®
등급ES-2000
일반적인 OH 함량≈ 600–1000 ppm (OH 농도 높음)
밀도2.20 g/cm³

2. 열적 특성

항목사양
CTE (0–300°C)0.51 × 10⁻⁶ /°C
연화점≈ 1585°C
어닐링점≈ 1042°C
변형점≈ 890°C
열전도도1.38 W/(m·K)

3. 기계적 특성

항목사양
영의 계수72.5 GPa
전단 탄성계수31.2 GPa
푸아송 비0.17
크누프 경도≈ 520 kg/mm²
굽힘 강도≈ 65 MPa

4. 광학적 특성

항목사양
587.6 nm에서의 굴절률1.4584
아베 수67.7
변속 범위170–2500 nm
자외선 투과율탁월함 (심자외선)
균질성Δn ≤ 2 × 10⁻⁶

5. 전기적 특성

항목사양
유전율 (20°C, 1 MHz)3.75
손실 탄젠트≈ 0.0001
부피 저항률> 10¹⁸ Ω·cm
절연 내력≈ 250–400 kV/cm

6. 화학적 순도

항목사양
SiO₂ 함량> 99.99%
금속 불순물< 1 ppm (총량)
기포와 내포물극히 낮음
내화학성훌륭함 (HF 제외)

7. 대표적인 응용 분야

분야응용 분야
반도체포토리소그래피 윈도우, 확산 튜브, 웨이퍼 캐리어
광학자외선(UV) 광학 소자, 정밀 렌즈
레이저엑시머 레이저 광학 부품, 자외선 레이저 윈도우
계측학기준 평면, 광학 표준

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