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Heraeus® Suprasil 1 – synthetisches Quarzglas

Heraeus® Suprasil 1 ist ein hochreines, synthetisches Quarzglasmaterial, das für anspruchsvolle Anwendungen in den Bereichen UV-Optik, Halbleitertechnik, Lasertechnik und wissenschaftliche Messtechnik eingesetzt wird. Mit einer hohen SiO₂-Reinheit von über 99,991 TP3T, einer hervorragenden Durchlässigkeit im tiefen UV-Bereich von 170–2500 nm, einer geringen thermischen Ausdehnung von 0,51 × 10⁻⁶ /°C sowie einer optischen Homogenität von bis zu Δn ≤ 1 × 10⁻⁶ eignet sich Suprasil 1 für Präzisionskomponenten, die eine stabile UV-Durchlässigkeit, geringe Verunreinigungswerte und zuverlässige Leistung unter thermischer oder optischer Beanspruchung erfordern.

Wir liefern maßgeschneiderte Heraeus® Suprasil 1-Komponenten aus Quarzglas gemäß Zeichnungen, Abmessungen, Wandstärken, Oberflächenqualitäten und Anwendungsanforderungen. Zu den typischen Produkten zählen Optiken für die Photolithografie, Prozessfenster für die Halbleiterfertigung, Optiken für 193-nm-/248-nm-Excimer-Laser, UV-Linsen, Prismen, optische Fenster, Spiegel, Spektroskopiekomponenten sowie weitere Präzisionsteile aus Quarzglas für optische und industrielle Projekte.

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Details – Einleitung

1. Grundlegende Informationen

ArtikelSpezifikation
MaterialartSynthetisches Quarzglas
MarkeHeraeus®
NoteSuprasil 1
Typischer OH-Gehalt≈ 600–1200 ppm (hoher OH-Gehalt)
Dichte2,20 g/cm³

2. Thermische Eigenschaften

ArtikelSpezifikation
CTE (0–300 °C)0,51 × 10⁻⁶ /°C
Erweichungspunkt≈ 1585 °C
Glühepunkt≈ 1042 °C
Dehnungspunkt≈ 890 °C
Wärmeleitfähigkeit1,38 W/(m·K)

3. Mechanische Eigenschaften

ArtikelSpezifikation
Elastizitätsmodul72,7 GPa
Schermodul31,4 GPa
Poisson-Zahl0.17
Knoop-Härte≈ 522 kg/mm²
Biegefestigkeit≈ 67 MPa

4. Optische Eigenschaften

ArtikelSpezifikation
Brechungsindex bei 587,6 nm1.4585
Abbe-Zahl67.8
Übertragungsreichweite170–2500 nm
UV-DurchlässigkeitHervorragend (Tief-UV)
HomogenitätΔn ≤ 1 × 10⁻⁶

5. Elektrische Eigenschaften

ArtikelSpezifikation
Dielektrizitätskonstante (20 °C, 1 MHz)3.75
Verlusttangens≈ 0,0001
Volumenwiderstand> 10¹⁸ Ω·cm
Durchschlagfestigkeit≈ 250–400 kV/cm

6. Chemische Reinheit

ArtikelSpezifikation
SiO₂-Gehalt> 99,99%
Metallverunreinigungen< 1 ppm (insgesamt)
Blasen und EinschlüsseExtrem niedrig
ChemikalienbeständigkeitHervorragend (außer HF)

7. Typische Anwendungsbereiche

FeldAnwendung
HalbleiterOptik für die Fotolithografie, Prozessfenster
LaserOptik für Excimer-Laser mit 193 nm / 248 nm
OptikUV-Linsen, Prismen, Fenster und Spiegel
WissenschaftlichSpektroskopie, Fluoreszenz und UV-Messgeräte

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