Le polissage double face est utilisé pour améliorer les deux faces du verre de précision, du quartz, de la silice fondue, du saphir, du silicium, de la vitrocéramique et des substrats optiques qui exigent un contrôle rigoureux de la qualité de surface, de la planéité, du parallélisme et de l'épaisseur. Permettant d'atteindre une rugosité de surface inférieure à 0,5 nm Ra, un TTV inférieur à 2 μm et une planéité allant jusqu'à λ/4, voire supérieure selon les exigences, ce procédé est adapté aux applications de haute précision dans les domaines de l'optique, des semi-conducteurs, des lasers, de la métrologie et de l'aérospatiale.
Nous proposons des services de polissage double face sur mesure pour les prototypes et la production en série, prenant en charge des substrats dont les dimensions varient de 10 à 300 mm et dont l'épaisseur est comprise entre 0,3 et 50 mm. Les pièces finies peuvent être fournies conformément aux spécifications des plans, avec en option un revêtement AR, HR, ITO ou métallique, ainsi que la documentation de contrôle (rapports de mesure et certificat de conformité, par exemple) si nécessaire.
